Tổng hợp các tính chất của một số chất hóa vô cơ thường gặp
I. PHẢN ỨNG TẠO PHỨC CỦA NH3.
– NH3 có thể tạo phức tan với cation Cu2+, Zn2+, Ag+, Ni2+…
TQ: M(OH)n + 2nNH3 → [M(NH3)2n] (OH)n với M là Cu, Zn, Ag.
VD: CuSO4 + 2NH3 + 2H2O → Cu(OH)2 + (NH4)2SO4 Cu(OH)2 + 4NH3 → [Cu(NH3)4] (OH)2
VD: AgCl + 2NH3 → [Ag(NH3)2]Cl
II. PHẢN ỨNG CỦA MUỐI AXIT ( HCO3–, HSO3–, HS–… )
- Ion HCO3– , HSO3–, HS–… có tính lưỡng tính nên vừa tác dụng với dung dịch axit, vừa tác dụng với dung dịch bazơ
HCO3– + H+ → H2O + CO2↑
HCO3– + OH– → CO3 2- + H2O
HCO3– + HSO4– → H2O + CO2↑ + SO42-
III. PHẢN ỨNG CỦA MUỐI HSO4–.
- Ion HSO4– là ion chứa H của axit mạnh nên khác với ion chứa H của axit yếu như HCO3–, HSO3–, HS–…
- Ion HSO4– không có tính lưỡng tính, chỉ có tính axit mạnh nên phản ứng giống như axit H2SO4 loãng.
+ Tác dụng với HCO3–, HSO3–,…
HSO4– + HCO3– → SO 2- + H2O + CO2↑
+ Tác dụng với ion Ba2+, Ca2+, Pb2+… HSO4– + Ba2+ → BaSO4↓ + H+
IV. TÁC DỤNG VỚI HCl
- Kim loại: các kim loại đứng trước nguyên tố H trong dãy hoạt động hóa học ( K, Na,Mg….Pb)
M + nHCl → MCln + (n/2)H2
VD: Mg + 2HCl → MgCl2 + H2
- Riêng Cu nếu có mặt oxi sẽ có phản ứng với HCl: 2Cu + 4HCl + O2 → 2CuCl2 + 2H2O
- Phi kim: không tác dụng với HCl
- Oxit bazơ và bazơ: tất cả các oxit bazơ và oxit bazơ đều phản ứng tạo muối ( hóa trị không đổi) và H2O
M2On + 2nHCl → 2MCln + nH2O
VD: CuO + 2HCl → CuCl2 + H2O
Fe3O4 + 8HCl → FeCl2 + 2FeCl3 + 4H2O
- Riêng MnO2 tác dụng với HCl đặc theo phản ứng: MnO2 + 4HCl → MnCl2 + Cl2 + 2H2O
- Muối: tất cả các muối của axit yếu và AgNO3, Pb(NO3)2 đều phản ứng với HCl
VD: CaCO3 + 2HCl → CaCl2 + CO2 + H2O Ca(HCO3)2 + 2HCl → CaCl2 + 2H2O + 2CO2 AgNO3 + HCl → AgCl↓ + HNO3
FeS + 2HCl → FeCl2 + H2S ↑ ( lưu ý CuS, PbS không phản ứng với HCl)
FeS2 + 2HCl → FeCl2 + H2S + S
- Riêng các muối giàu oxi của Mn, Cr tác dụng với HCl đặc tạo khí Cl2
VD: 2KMnO4 + 16HCl → 2KCl + 2MnCl2 + 5Cl2 + 8H2O
V. TÁC DỤNG VỚI NaOH.
- Kim loại:
– Nhóm 1: các kim loại phản ứng với H2O gồm KLK và Ca, Sr, Ba. Các kim loại nhóm 1 sẽ phản ứng với H2O ở trong dung dịch NaOH.